2011-08-30

“2011年全国材料年会扫描电子显微学分会场”通知

2011年全国材料科学电子显微学会议于2011年10月23-29日在四川省成都市召开。

为推动我国扫描电子显微学的进步，提高广大扫描电子显微学工作者的学术及技术水平，充分发挥国家科技投入的效益，促进扫描电子显微学在材料科学、地矿和工程技术等领域的发展，中国电子显微镜学会决定在2011年召开的全国材料科学电子显微学会议设立扫描电镜在材料科学与技术领域中的应用分会场。

会议报告内容：

（1）扫描电子显微学在材料科学，化学化工及地学等方面的应用成果。

（2）扫描电子显微学在失效分析，刑侦，考古及集成电路生产等方面的应用成果。

（3）EBSD技术在材料科学与技术、地质科学与技术、微电子及信息产业、半导体科技等领域的应用。

（4）扫描电镜样品制样技术及经验总结。

（5）扫描电镜及有关仪器理论，研制及生产成果。仪器管理使用，改进及维修方面的经验。

（6）扫描探针显微镜（扫描隧道/原子力显微镜），共聚焦激光扫描电镜的进展及应用。

（7）图像处理及分析技术。

分会场将以报告，专题讨论，论文展示（poster），照片展示及评奖等多种形式进行。

由于时间临近会议，考虑到投稿已来不及（会议通知年初即发，有些专家学者对议会场的设立不是很清楚），请各位参会学者将工作以（poster）的形式展示给大家。

会议时间、地点请看中国电镜网（www.china-em.cn）2011年全国材料科学电子显微学会议通知（第二轮）。

欢迎从事扫描电子显微学工作的专家学者参会。